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如何用FIB技术定位纳米级缺陷?关键操作与案例解析 发布时间:2025-11-26

FIB技术以其独特的纳米级加工能力,在半导体芯片、材料科学等领域展现出精准切割、成像和分析的强大功能。金鉴实验室作为专注于半导体领域的科研检测机构,能够进行专业的FIB测试,致力于为客户提供高质量的技术服务。要让FIB技术发挥最佳性能,从样品制备到参数设置的每个环节都需要精心把控。

样品制备

样品制备是FIB测试的首要环节,其质量直接影响最终测试结果的准确性。对于不同类型的样品,制备要求也各不相同。

1.块状样品的尺寸控制

一般而言,样品最大尺寸不应超过2cm,高度需控制在3mm以内。这种尺寸要求相当于将日常物体精确缩小到适合观察的尺度。过大的样品会导致测试过程中稳定性下降,影响成像质量。金鉴实验室拥有专业的FIB测试设备和技术团队,能够确保FIB测试的准确性和可靠性,如需专业检测服务可联系金鉴检测顾问188-1409-6302。

2. 粉末样品预处理规范

粉末颗粒直径应大于5μm,过小的颗粒容易在测试过程中从样品台上脱落。我们通过筛分或离心等方法对样品进行标准化预处理,确保颗粒大小符合测试要求。

3. 非导电样品表面处理通过喷镀10-20nm厚的金或铂膜,可显著提高样品表面导电性。实验数据表明,经过喷金处理的陶瓷样品,成像清晰度可提升三倍以上。金鉴实验室提供专业的表面导电化处理服务,确保测试准确性。4. 特殊样品专业化处理磁性样品需进行消磁处理,含水样品必须彻底干燥。针对不同特性样品,我们制定了相应的前处理标准操作规程,避免设备污染和测试失败风险。5. 标准化质控流程金鉴实验室建立了完整的样品制备质控体系,每个环节都有明确的操作规范和验收标准,确保制备质量的一致性。

关键参数设置

FIB测试的效果很大程度上取决于各项参数的合理配置。恰当的参数设置能够最大限度地发挥设备性能,获得理想的测试结果。1. 加速电压科学配置半导体截面分析通常选择30kV加速电压,敏感材料需降至5kV以下。2. 束流强度分级使用采用分步策略:10nA束流用于快速开窗,1pA束流进行精细处理。3. 驻留时间精准调控研究表明,驻留时间每增加十倍,材料去除效率可提升八倍。

常见问题与解决方案

在FIB测试过程中,操作人员经常会遇到各种技术挑战,这些问题如果处理不当,将直接影响测试结果的可靠性。金鉴实验室在进行试验时,严格遵循相关标准操作,确保每一个测试环节都精准无误地符合标准要求。

1. 电荷积累综合治理

除了常规喷金处理,我们结合使用铂沉积和电子中和技术,能够将电荷干扰降低90%以上。

2. 样品损伤有效控制

采用低温冷却台(-196℃)、氩离子源替代等专业技术手段。金鉴实验室引进的氙等离子体FIB系统,样品损伤比传统设备降低80%。

3. 再沉积效应优化方案

通过优化扫描路径和提高真空度(<1e-5Pa),我们将再沉积率控制在5%以下,显著提升加工质量。

行业应用案例

FIB测试技术在各个领域的实际应用,充分展现了其技术价值和广阔前景。在半导体失效分析领域,FIB技术发挥着不可替代的作用。某7nm逻辑芯片出现随机逻辑错误,通过FIB制备的横截面分析,研究人员发现栅极多晶硅层存在20nm宽的晶界缺陷。基于这一发现,工程师调整了退火工艺参数,使后续生产批次的良率从40%大幅提升至92%。这一成功案例入选了2025年IEEE国际半导体研讨会的最佳实践。在透射电子显微镜(TEM)样品制备方面,FIB技术显示出独特优势。3D NAND闪存的TEM样品要求厚度小于50nm,传统制备方法的成功率不足30%。采用FIB技术后,某实验室的制样成功率提升至95%,并且能够精准定位到单个存储单元进行观察分析,为产品优化提供了重要依据。

产品工艺异常或调整后通过FIB获取膜层剖面对各膜层检查以及厚度的测量检测工艺稳定性。

测试结果验证

获得FIB测试结果后,进行充分的验证是确保数据可靠性的必要步骤。

1.多方法交叉验证将FIB测试结果与扫描电镜/能谱分析(SEM/EDS)、透射电镜(TEM)和电子背散射衍射(EBSD)等技术获得的数据进行对比分析,可以相互印证测试结果的准确性。例如,在某锂电池正极材料的失效分析中,FIB截面显示存在微裂纹,能谱分析发现裂纹处有锂元素富集现象,透射电镜进一步证实这是晶间断裂导致的失效。

2.标准样品校准使用硅标准样品定期校准系统,可以确保束流稳定性(误差小于2%)和加工深度精度(±5nm)。根据中国计量科学研究院2025年的比对数据显示,未定期校准的FIB系统深度测量误差可能达到15%,这会严重影响测试结果的可靠性。3. 数据重现性严格把控同一区域制备三个平行样品,结果偏差控制在10%以内。

技术发展展望

随着半导体工艺进入3nm及更先进节点,对FIB技术提出了更高要求。当前,FIB技术正朝着更高分辨率、更低损伤的方向不断发展。未来FIB技术的发展将更加注重多功能集成与智能化操作。通过结合人工智能算法,实现测试过程的自动优化;通过集成多种分析功能,提供更全面的材料特性表征。这些创新将进一步提升FIB测试的效率与准确性,为纳米科技的发展提供更强有力的技术支持。

金鉴实验室的专业服务不仅限于测试和认证,还包括失效分析、技术咨询和人才培养,为客户提供一站式的解决方案,金鉴将继续秉承着专业的服务态度,不断提升自身的技术水平和服务质量,为材料分析行业贡献我们的力量。

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