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探索再结晶、EBSD和TEM图像解析的奥秘 发布时间:2024-08-15 12:47:36



     再结晶过程及其影响因素解析


接下来我们一起探讨再结晶的机制、分类和影响因素,为材料科学领域提供了宝贵的知识。再结晶是材料在经历变形后,通过热处理恢复其组织和性能的一种现象。文章最后提供了BESD和TEM图像,以助于我们更直观地理解再结晶过程。

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锻造TNM合金的DefRex图

再结晶通常由热处理或热变形触发,是材料在变形过程中产生缺陷后的自然恢复过程。这些缺陷,如位错和晶界,会促使材料在高温下通过位错重排和湮没来降低系统的自由能,从而形成新的晶粒结构。

再结晶的分类主要包括静态再结晶(SRX)和动态再结晶(DRX)。SRX发生在退火过程中,而DRX则在热变形过程中进行。此外,根据再结晶的具体机制,还可以细分为连续动态再结晶(CDRX)、不连续动态再结晶(DDRX)、几何动态再结晶(GDRX)和亚动态再结晶(MDRX)。这些分类并非严格界定,不同学者可能有不同的理解。

再结晶过程受到多种因素影响,包括层错能(γSFE)、原始晶粒尺寸、热加工条件以及第二相粒子等。层错能的高低决定了位错的分解和移动,影响再结晶的速率。较小的原始晶粒尺寸和适宜的热加工条件,如高温度和低应变速率,有利于再结晶的进行。第二相粒子通过阻碍晶界运动,对再结晶过程也有显著影响。

EBSD和TEM是两种经典的图像分析方法,用于研究再结晶。EBSD通过DefRex图分析再结晶晶粒的分布和百分比,尽管存在分辨率限制可能导致准确性问题。而TEM则能够直接观察到材料的亚结构,如位错,为再结晶研究提供了更为直观的视角。金鉴实验室拥有扫描电镜(SEM)四台、双束聚焦离子束显微镜(FIB-SEM)、X射线透视仪(XRD)、氩离子切割抛光仪等大型精密贵重分析仪器设备。企业拥有CMA和CNAS资质,所发布的报告可用于产品质量评价、成果验收及司法鉴定,具有法律效力。


图像分析方法的应用


EBSD技术通过观察晶界来判断晶粒是否经历了再结晶,如下图所示的锻造TNM合金的DefRex图。大角度晶界包裹的晶粒通常被认为是再结晶晶粒。下图是锻造TiAl合金的晶界图,其中绿线表示大角度晶界,被分开的晶粒即为发生动态再结晶的区域。

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锻造TiAl合金的BC+GB(晶界)图

TEM技术则提供了更为深入的观察,下图所示的TiAl合金轧制后的TEM图像,清晰显示了无位错的等轴晶粒,这些即为再结晶晶粒。

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TiAl合金轧制后的TEM图片


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