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电子元器件检测技术 发布时间:2025-06-24 15:02:52


电子元器件检测的重要性


电子元器件作为现代电子装备的核心组成部分,其可靠性和性能直接决定了整个电子系统的稳定性和功能表现。随着电子技术的飞速发展,电子元器件的种类日益丰富,包括集成电路、场效应管、二极管、发光二极管、三极管、晶闸管、电阻、电容、电感、继电器、连接器、光耦、晶振等有源和无源器件。金鉴实验室作为专注于电子元器件产业的科研检测机构,能够对电子元器件进行严格的检测,致力于为客户提供高质量的测试服务,为电子元器件在各个领域的可靠应用提供坚实的质量保障。


这些元器件的复杂性和集成度不断提高,对其检测技术的要求也日益严格。只有通过全面、准确的检测,才能确定元器件的失效机理,找出失效原因,并将结果反馈给设计、制造和使用环节,从而共同研究和实施纠正措施,提高电子元器件的可靠性,如需进行专业的检测,可联系金鉴检测顾问189-2421- 3655。

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外观检测技术


外观检测是电子元器件检测的第一步,主要用于初步检查元器件的外观特征和表面缺陷。体视显微镜是一种重要的外观检测工具,它具有正像立体感的目视功能,能够从不同角度观察物体,使双眼产生立体感觉。这种双目显微镜无需对观察样品进行加工制作,直接将样品放入镜头下配合照明即可进行观察,成像直立,便于操作和解剖。




电学测试技术


电学测试是评估电子元器件性能的关键环节,主要检测芯片、元件等电性能参数是否满足设计要求。探针台配合源表可以检测电压、电流、阻抗、电场、磁场、EDM、相应时间等多种电学参数。通过电学测试,可以确保元器件在规定的电压、电流条件下能够正常工作,稳定性良好,可靠性高。


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例如,对于集成电路,电学测试可以检测其逻辑功能是否正常,输出信号是否符合设计要求;对于电阻、电容等被动元件,可以检测其阻值、容值是否在规定的范围内。电学测试能够及时发现元器件的电学性能缺陷,如漏电、短路、参数漂移等问题,从而避免这些元器件在实际应用中导致系统故障。针对电子元器件领域,金鉴实验室提供包括电学测试等一站式服务,涵盖各个环节,满足客户多元化的需求。




X-ray无损检测技术


X射线检查是一种利用X射线透视性能对被测样品进行无损检测的技术。当X射线照射样品时,样品的缺陷部分会吸收X射线,导致成像出现异常。这种检测技术主要用于检查集成电路引线是否损坏,例如引线断裂、短路、焊接不良等问题。通过X射线检查,可以在不破坏元器件封装的情况下,快速、准确地发现内部结构的缺陷,为元器件的质量评估和失效分析提供重要依据。


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开封检查技术


开封检查是一种用于暴露集成电路(IC)内部结构的技术,以便进行进一步的分析、检查或修改。常见的开封方法包括激光开封、化学开封、机械开封和等离子体开封。


激光开封利用激光束去除IC表面塑封,具有速度快、操作方便的优点;化学开封使用化学试剂如发烟硝酸和浓硫酸,通过化学反应去除封装材料,适用于某些特定材料的封装;机械开封通过物理手段如切割或磨削去除封装材料,适用于较厚的封装材料;等离子体开封则利用等离子体技术进行开封,具有精度高、对内部结构损伤小的特点。开封检查能够直接暴露元器件的内部结构,为后续的微观检测和失效分析提供条件。


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制样检查技术


在进行样品功能性测试、可靠性测试以及失效分析等环节之前,样品备制前处理是不可或缺的关键步骤。制样检查主要包括切片方式,用于观察芯片的断面或横截面结构。切片方式对于确认芯片内部的金属接线、各层结构、锡球接合结构、封装打线等潜在缺陷具有至关重要的作用。


常见的芯片横截面制样方式有金相切片、离子研磨、聚焦离子束(FIB)切割三种。制样检查能够为微观结构分析提供高质量的样品,有助于深入研究元器件的内部缺陷和失效机理。金鉴实验室在进行试验时,严格遵循相关标准操作,确保每一个测试环节都精准无误地符合标准要求。




光学显微镜观察技术


光学显微镜是电子元器件检测中常用的微观观察工具之一。此外,红外显微镜可以穿透封装的硅层,观察Si层底下的线路,对于封装后的集成电路内部结构观察具有独特的优势。通过光学显微镜观察,可以发现元器件表面或内部的微观缺陷,如裂纹、孔洞、金属层断裂等,为失效分析提供直观的证据。


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失效点位检测技术


在集成电路失效分析中,缺陷定位是一个重要而困难的项目。只有准确定位失效位置,才能进一步发现失效机理及缺陷特征。金鉴实验室拥有专业的显微镜设备和技术团队,能够确保失效分析的准确性和可靠性。


Emission显微镜技术是一种具有非破坏性和快速精准特性的检测手段,它使用光电子探测器来检测产生光电效应的区域。由于在硅片上产生缺陷的部位通常会发生不断增长的电子-空穴再结合而产生强烈的光子辐射,因此Emission显微镜能够快速、准确地定位缺陷位置。


热发射显微镜系统(Thermal Emission microscopy system)是半导体失效分析和缺陷定位的常用手段之一,通过接收故障点产生的热辐射异常来定位故障点(热点/Hot Spot)位置。它能够侦测的半导体缺陷非常广泛,包括微安级漏电、低阻抗短路、ESD击伤、闩锁效应点、金属层底部短路等,同时也可以精确定位电容的漏电和短路点、FPC、PCB、PCBA的漏电、微短路等问题。失效点位检测技术为深入分析元器件失效原因提供了关键技术支持。




SEM及能谱分析技术


扫描电镜(SEM)在失效分析领域的应用非常广泛,主要用于分析各种材料的形貌、结构、界面状况、损伤机制以及材料性能预测等方面。通过SEM,可以直接观察材料内部原子的集结方式和真实的边界,研究晶体缺陷等,从而分析得出失效原理。SEM及能谱分析技术能够为元器件的失效分析提供详细的微观结构信息和成分分析,帮助研究人员深入理解失效机理,为改进设计和制造工艺提供科学依据。


电子元器件检测技术是保障电子装备可靠性和性能的关键手段。通过多种检测技术的综合应用,可以从宏观到微观、从外观到内部结构全面评估元器件的质量和可靠性。


随着电子技术的不断发展,检测技术也在不断创新和完善,以满足日益严格的检测要求,为电子元器件的高质量发展提供有力支持。金鉴实验室的专业服务不仅限于测试和认证,还包括失效分析、技术咨询和人才培养,为客户提供一站式的解决方案,金鉴将继续秉承着专业的服务态度,不断提升自身的技术水平和服务质量,为电子元器件检测技术行业贡献我们的力量。


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